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等离子体清洗在封装生产中的应用

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编辑时间 : 2020-06-08
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等离子体清洗在微电子封装领域有着广泛的应用前景,等离子体清洗技术的成功应用依赖于工艺参数的优化,包括过程压力、等离子激发频率和功率、时间和工艺气体类型、反应腔室和电极的配置以及待清洗工件放置位置等。半导体后部生产工序中,由于指印、助焊剂、焊料、划痕、沾污、微尘、树脂残迹、自热氧化、有机物等,在器件和材料表面形成各种沾污,这些沾污会明显地影响封装生产及产品质量,利用等离子体清洗技术,能够很容易清除掉生产过程中形成的这些分子水平的污染,从而显著地改善封装的可制造性、可靠性及成品率。


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